نام کتاب: Design For Manufacturability And Yield For Nano-Scale Cmos
نویسنده: Charles C. Chiang و Jamil Kawa
ویرایش: ۱
سال انتشار: ۲۰۰۷
کد ISBN کتاب: ۹۷۸۱۴۰۲۰۵۱۸۷۶, ۹۷۸۱۴۰۲۰۵۱۸۸۳
فرمت: PDF
تعداد صفحه: ۲۵۵
انتشارات: Springer Netherlands
Description About Book Design For Manufacturability And Yield For Nano-Scale Cmos From Amazon
As we approach the 32 nm CMOS technology node the design and manufacturing communities are dealing with a lithography system that has to print circuit artifacts that are significantly less than half the wavelength of the light source used, with new materials, with tighter pitches, and higher aspect ratio metallurgies. This reality has resulted in three main manufacturability issues that have to be addressed: printability, planarization, and intra-die variability. Addressing in depth the fundamentals impacting those three issues at all the stages of the design process is not a luxury one can ignore. Manufacturability and yield are now one and the same and are no longer a fabrication, packaging, and test concerns; they are the concern of the whole IC community. Yield and manufacturability have to be designed in, and they are everybody’s responsibility.
Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process and how to address each aspect at the proper design step starting with the design and layout of standard cells and how to yield-grade libraries for critical area and lithography artifacts through place and route, CMP model based simulation and dummy-fill insertion, mask planning, simulation and manufacturing, and through statistical design and statistical timing closure of the design. It alerts the designer to the pitfalls to watch for and to the good practices that can enhance a design’s manufacturability and yield. This book is a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development.
درباره کتاب Design For Manufacturability And Yield For Nano-Scale Cmos ترجمه شده از گوگل
همانطور که ما نزدیک تکنولوژی ۳۲ نانومتر CMOS گره طراحی و جوامع تولید در برخورد با یک سیستم لیتوگرافی است که به چاپ آثار مدار که به میزان قابل توجهی کمتر از نصف طول موج منبع نور استفاده می شود، با مواد جدید، با رزین های سخت تر، و بالاتر و metallurgies نسبت. چاپ، planarization و تنوع درون قالب: این واقعیت در سه موضوع از ساخت اصلی که باید به آن پرداخت شده است. خطاب در عمق اصول تأثیر آن سه موضوع در تمام مراحل فرآیند طراحی است یک لوکس می تواند نادیده بگیرد. تولید و عملکرد در حال حاضر یکی و همان و دیگر یک ساخت، بسته بندی، و نگرانی های آزمون؛ آنها نگرانی از کل جامعه آی سی هستند. عملکرد و قابلیت ساخت باید در طراحی شود، و آنها مسئولیت همگان هستند.
طراحی برای ساخت و عملکرد نانو مقیاس CMOS پیاده روی خواننده را از طریق تمام جنبه های تولید و عملکرد در یک فرایند نانو CMOS و چگونگی رسیدگی به هر یک از جنبه در مرحله طراحی مناسب با شروع با طراحی و طرح از سلول های استاندارد و چگونه به کتابخانه عملکرد درجه برای منطقه و لیتوگرافی مصنوعات مهم از طریق مکان و مسیر، شبیه سازی مبتنی بر مدل CMP و درج ساختگی را پر کنید، برنامه ریزی ماسک، شبیه سازی و ساخت، و از طریق طراحی آماری و آماری بسته شدن زمان طراحی. این هشدار طراح به مشکلات به تماشای برای و به شیوه های خوب است که می تواند از ساخت یک طراحی و عملکرد را افزایش دهد. این کتاب است که باید کتاب جدی تمرین طراح IC و یک پرایمر بسیار عالی برای هر دانش آموز فارغ التحصیل قصد داشتن شغلی در طراحی IC یا در حال توسعه ابزار EDA به عنوان خوانده شده.
[box type=”info”]
جهت دسترسی به توضیحات این کتاب در Amazon اینجا کلیک کنید.
در صورت خراب بودن لینک کتاب، در قسمت نظرات همین مطلب گزارش دهید.
با خرید اشتراک، بدون محدودیت، کتاب دانلود کن!
