نام کتاب: Design For Manufacturability With Advanced Lithography
نویسنده: Bei Yu و David Z. Pan
ویرایش: ۱
سال انتشار: ۲۰۱۶
کد ISBN کتاب: ۹۷۸۳۳۱۹۲۰۳۸۴۳, ۹۷۸۳۳۱۹۲۰۳۸۵۰
فرمت: PDF
تعداد صفحه: ۱۶۴
انتشارات: Springer International Publishing
Description About Book Design For Manufacturability With Advanced Lithography From Amazon
This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.
درباره کتاب Design For Manufacturability With Advanced Lithography ترجمه شده از گوگل
این کتاب به معرفی خوانندگان به ترین نتایج تحقیقات پیشرفته در طراحی برای ساخت (DFM) با لیتوگرافی چند الگودهی (MPL) و لیتوگرافی پرتو الکترونی (EBL). نویسندهدر جزئیات توصیف مجموعه ای از الگوریتم / روش برای حل و فصل مسائل در طراحی مدرن برای مشکلات از ساخت با لیتوگرافی پیشرفته. بر خلاف کتاب که بحث در مورد DFM از سطح محصول و یا سطح تولید فیزیکی، این کتاب به توصیف راه حل DFM از یک سطح طراحی مدار، به طوری که بسیاری از مشکلات مهم را می توان فرموله و حل از طریق الگوریتم های ترکیبی.
[box type=”info”]
جهت دسترسی به توضیحات این کتاب در Amazon اینجا کلیک کنید.
در صورت خراب بودن لینک کتاب، در قسمت نظرات همین مطلب گزارش دهید.
با خرید اشتراک، بدون محدودیت، کتاب دانلود کن!
